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中国等离子体刻蚀机达到世界先进水平

来源: 科技日报
作者:南皮县产学研科技成果转化服务中心
日期: 2017-04-30
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日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm刻蚀机设备可以与世界最前沿技术比肩。

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